濺射靶材： 濺射靶材（cái）按形狀分類：矩形平麵（miàn）靶材、圓（yuán）形平麵靶材、圓柱靶材

濺射（shè）靶材按成分分類（lèi）：單質金屬靶材（cái）、合金（jīn）靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿著環（huán）形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與靶（bǎ）背板 

1. 靶（bǎ）功率（lǜ）密度與靶材冷卻：靶功率越大，濺射速度越大；靶允許的功（gōng）率與靶材的性質及（jí）冷卻有關；靶材采用直接水冷，允許（xǔ）的靶功率（lǜ）高。

2. 靶背（bèi）板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性靶材及燒（shāo）結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶（bǎ）材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度足夠---太薄，容易變形，不易真空密封。 

結構： 

空心或者實心結構---磁鋼（gāng）不（bú）泡（pào）或泡在冷水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容易（yì）變形。