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現代真空鍍膜機膜厚的測量及監控方法

作者: 來源: 日期:2016-01-12 16:12:17 人氣:111124
    最直接的鍍膜控製方法是(shì)石(shí)英晶體微量平衡法(QCM),這種儀(yí)器可以直接驅動蒸(zhēng)發源,通過PID控(kòng)製循環驅動擋板,保持蒸發速率。隻要(yào)將儀器(qì)與係統控製軟件相連(lián)接,它就可(kě)以控製整個的鍍膜過程。但是(shì)(QCM)的精確度是有限的,部分原因是由於它(tā)監控的是(shì)被鍍膜的質量而不(bú)是其光學厚度。
    此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定,但溫(wēn)度較高時,它會變(biàn)得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過(guò)程中,很(hěn)難阻止傳感器跌入這個敏感區域,從而對膜層造成重大誤差。
    光學(xué)監控是高精密鍍膜的的首選監控方式,這是因為它可以更精確地控製膜層厚度(dù)(如果運用得當)。精確度的改進源於很多因素,但最根(gēn)本的原因是對(duì)光學厚度的監控。
    OPTIMAL SWA-I-05單(dān)波長光學監控係統,是采用間接測控,結合汪博士開發的(de)先進(jìn)光學監控軟件,有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和(hé)方法來減少終極誤(wù)差,提供了反饋或傳輸的選擇模(mó)式和大範圍的監測波長。特別適合於各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。
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