氣體的分布狀（zhuàng）況（kuàng）對於平板基片鍍膜來說是（shì）極其重要的，通過（guò）機（jī）械結構設計，使氣（qì）體密度的變化率在濺射沉積區域內的盡量小。
而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率（lǜ）和抽氣（qì）係統的效率。
控製氣體分（fèn）布的機械部件或結構包括布氣係統、真（zhēn）空室的結構、抽氣係統等三個部分。
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而在區域外，使係統的流導盡量的大，以提高氣體的利用率（lǜ）和抽氣（qì）係統的效率。
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