真（zhēn）空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸（zhēng）鍍材料（金屬合金或金（jīn）屬氧化物）到一定溫度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽（qì）化逸出（chū），形成蒸汽（qì）流，並（bìng）飛行濺射到玻璃基板表麵（miàn）凝（níng）結形（xíng）成固（gù）態薄膜的（de）方法。

由於真空（kōng）蒸鍛法（fǎ）的主（zhǔ）要物（wù）理過程是通過加熱蒸發材料（liào）而產生，所以又稱熱（rè）蒸（zhēng）發法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，

大多數蒸發材料都要求在（zài）1000-2000℃的高溫下蒸發。真空（kōng）蒸鍍法按蒸發源的不同可分為電阻（zǔ）法、電子（zǐ）束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發（fā）法等。