磁控濺（jiàn）射真空鍍膜機需要鍍膜的被（bèi）稱為基片，鍍的（de）材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜（mó）一般是加熱靶材使表麵組分（fèn）以原子團或離子形式（shì）被蒸發出來。並且沉降在基片表（biǎo）麵（miàn），通過成膜過程（散點－島（dǎo）狀結構-迷走（zǒu）結（jié）構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺（jiàn）射類鍍膜，可以（yǐ）簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出（chū）來，並且最（zuì）終沉積在基片表麵，經曆成（chéng）膜過程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控櫃操作
1、開（kāi）水泵、氣源。
2、開總電（diàn）源。
3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開（kāi）關換到V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦（wō）輪分子泵（bèng）讀數到達250以後，關預抽（chōu），開前級泵和高真空閥繼續抽真空，抽真空到達一定程（chéng）度後才能開右邊的高真空表頭，觀察（chá）真空度。真空到達2×10-3以（yǐ）後才能打開電（diàn）子槍電源。

DEF-6B操（cāo）作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍（qiāng）控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電（diàn）源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護（hù）燈（dēng）亮，三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關（guān）好或水流繼電器有故障，保護燈會常（cháng）亮。
3. 開高壓，高壓會達（dá）到10KV以上，調節束（shù）流可到200mA左右，簾（lián）柵為20V/100mA，燈（dēng）絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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