對於（yú）真（zhēn）空鍍膜機設備的分（fèn）類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下（xià）進行的鍍膜設備，包括真（zhēn）空（kōng）離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍（dù）膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主（zhǔ）要是分成（chéng）蒸發和濺射兩種。
在真空鍍（dù）膜設備中需要鍍膜（mó）的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材（cái）同在真空腔中。
蒸發鍍膜（mó）一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式（shì）被蒸發出來，並（bìng）且沉降在基片表麵，通過成膜（mó）過程形成薄膜。

真（zhēn）空鍍膜機對於濺射類（lèi）鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能（néng）激（jī）光（guāng）轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出（chū）來，
並且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜。爐體可選擇由不鏽鋼（gāng）、碳鋼或它們的組合製（zhì）成的雙層水冷（lěng）結（jié）構。

根據工（gōng）藝要求選擇不同規（guī）格及類型鍍膜設備，其類型（xíng）有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設（shè）備（bèi）、
磁控濺射真空鍍膜（mó）設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多（duō）弧離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公（gōng）轉+自（zì）轉方式，用戶可根據片尺寸及（jí）形狀提出相應要求，轉動的速度範圍（wéi）及轉動精（jīng）度：普通可調及變頻調（diào）速等（děng）。