真空鍍膜設備多弧離子鍍膜（mó）上的創新方（fāng）法，所謂多弧離（lí）子（zǐ）鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍（dù）材料（liào），使之（zhī）蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍（dù）基板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜（mó）有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，

減少氣體中的活性分子和蒸發源材料（liào）間的化學反（fǎn）應（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體（tǐ）分子進入薄膜中成為雜（zá）質（zhì）的量，從而提供膜層的致密度、純（chún）度（dù）、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子鍍（dù）膜（mó）工藝不僅避免了傳（chuán）統表麵（miàn）處理的不足，且各項技術指標（biāo）都優於傳統工藝，在五金（jīn）、機械、化工、模具（jù）、電子、儀器等領域有廣泛（fàn）應（yīng）用。

催化液和傳統處理工（gōng）藝相比，在技術上（shàng）有哪些創新（xīn）？

1、多弧（hú）離子（zǐ）鍍膜不用電、降低（dī）了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機（jī）多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大大降低（dī）了成本。