真空鍍膜機電化學沉積（jī）指的是用電化學方法在金屬或非金屬製件表麵沉積一層或多層金屬鍍層或合金鍍層或複（fù）合鍍層的技術。通常（cháng）是，表麵具有導電能力的製件，於電解質溶液（yè）中，被置於陰極，在外電流（liú）的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合離子在製件表麵，即陰極表麵（miàn）發生還原反應，使金屬沉積（jī）在製件的表麵，這一過程又叫金屬電沉積，俗稱電（diàn）鍍。用真空鍍膜設備電鍍的方法可以在金屬或非金屬製件表麵得到功能各異（yì）的多種鍍（dù）層，滿足在不同環境中對製件的使用要求。
　　它們涉及四大類：耐腐蝕、抗（kàng）氧（yǎng）化；耐磨損、減摩；裝飾、美化；聲、光、磁、電（diàn）的轉換，以及其他（tā）方麵（miàn）如催化、殺（shā）菌等。內容包括單金（jīn）屬鍍層、合金鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化學氧化、電（diàn）化學氧化等。目前研究方（fāng）向包括：合金電鍍、激光電鍍、微粒彌散複合電鍍、纖維增強複合（hé）電鍍、梯度功能複合電鍍、微弧氧化、納（nà）米電龜鍍與納米多層膜電鍍等。怎麽挑選市場上（shàng）形（xíng）形（xíng）色色的真空設備?真空鍍膜（mó）機電鍍層設（shè）計的選用要在了解它們的特性（xìng）、設計依據、適用範圍、不宜或不允許使用範圍的基礎上進行，進而確定厚度係列與工藝（yì）。
　　雖然（rán），它（tā）在表麵處理技術中的曆史較長，工藝也（yě）比較成熟，但隨著現代工業和技術的飛速發展，對真空鍍膜設備（bèi）電鍍層的功能性要求（qiú）越來（lái）越（yuè）高，如高的耐腐蝕性、抗氧化性、良好（hǎo）的導（dǎo）電性、高硬度、高的耐磨性（xìng）以及某些特殊的物理、化學特性，像特殊的電學性質、磁學性質、半導體性能以及超導性能等，電鍍新技（jì）術也不斷在發展（zhǎn）。

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