化學氣相（xiàng）沉積是一種製備材料（liào）的氣相生長方（fāng）法，它是把一種或幾種含有構成薄膜羞羞视频_羞羞漫画_羞羞视频在线观看_羞羞漫画在线观看_羞羞漫画SSS_羞羞色漫_羞羞网站_羞羞漫画在线_羞羞小视频_羞羞影院_羞羞漫画免费观看_羞羞漫画官网（yuán）素的化合物、單質（zhì）氣體通（tōng）入放置有基材的反應室，借助空間氣相化（huà）學反應在基體表麵上沉積固態薄膜的工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱CVD)是（shì）反應物質在氣態條件下發生化學反應，生成固態物質沉積在加熱的固態基體表麵，進而製得固（gù）體材料的工藝技術。它（tā）本（běn）質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相（xiàng）對的是物理氣相沉積（PVD）。