CJ係列磁控濺射真空鍍膜（mó）機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊（jī）物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現（xiàn）象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁（cí）場，磁場為曲線（xiàn）形，均勻電場和對數電場（chǎng）則分別用於平（píng）麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原（yuán）子發生碰撞。若電（diàn）子（zǐ）具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並（bìng）產生電子，電子飛向基片，Ar+在（zài）電場作用（yòng）下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛（fàn）應（yīng）用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機（jī）按鍵（jiàn）外殼以（yǐ）及儀（yí）器儀表、塑料、玻璃（lí）、陶瓷、磁（cí）磚等表麵裝飾性（xìng）鍍膜及工模具的功能塗（tú）層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電（diàn）膜等領域（yù）有優勢。

1）、膜厚可（kě）控（kòng）性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度（dù）的薄膜，並且濺射（shè）鍍膜可以在較（jiào）大的表麵上獲得（dé）厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上（shàng）形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使（shǐ）用不（bú）同的材料同（tóng）時濺（jiàn）射製備混合膜、化合膜，還可（kě）濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純（chún）度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器（qì）材（cái）料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需（xū）加熱直接（jiē）常（cháng）溫冷（lěng）鍍（dù）成（chéng）膜（mó），節能省（shěng）電，提高產能。