CJ係列磁控濺射真空（kōng）鍍膜機的磁控濺射工作原（yuán）理，所謂“濺射”就是用荷（hé）能粒（lì）子（通常用氣體正離（lí）子）轟擊物體，從而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采（cǎi）用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用（yòng）下，加速飛向（xiàng）基片的（de）過程中（zhōng）與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠（gòu）的能量（約為30ev）時（shí），則電離（lí）出Ar+並產生電子，電子飛（fēi）向基片（piàn），Ar+在電場作用（yòng）下，加速飛（fēi）向陰極（jí）（濺射靶）並以高能量轟擊靶表（biǎo）麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵（jiàn）外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金（jīn）裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重（chóng）複（fù）性（xìng）好。能（néng）夠可靠（kào）的鍍製（zhì）預定厚度的薄膜，並且濺射（shè）鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚（hòu）度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分高能量的（de）濺射原（yuán）子產生不同程度的注入（rù）現（xiàn）象，在基片上（shàng）形成一層（céng）濺射原子與（yǔ）基片原（yuán）子相互溶合的偽擴散（sàn）層；
3）、製備特殊材料的薄（báo）膜，可以使用不同的材料同時濺射製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜（mó），節能省電，提高產能。