磁控濺射是一種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅（qū）動器（qì）、CD 和光學器件的主要（yào）薄膜沉積方法。以下是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的原因和相關解決方案供您參考。

● 問題一：薄膜灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗（àn）淡無光澤
● 問題三：薄膜顏色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題（tí）五：薄膜表麵有水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或（huò）暗黑 
丨真空度小（xiǎo）於0.67Pa；真（zhēn）空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純（chún）度小於（yú）99.9%；氬氣應更換為（wéi）純度為 99.99%。
丨充（chōng）氣係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏（lòu）氣。
丨薄膜（mó）未（wèi）充分固化；薄膜的固化時（shí）間應適當延長。
丨（shù）鍍件排出的氣體量（liàng）過大；應進行幹燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜固化不良或變質；應延（yán）長薄膜固化時間或更換底漆。
丨磁控濺射時（shí）間過長；施工時間應適當縮短。
丨磁控（kòng）濺射成（chéng）膜速度太快；磁控濺（jiàn）射電流或電壓應適當降（jiàng）低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴（pēn）塗不均；底漆的使用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射速率或延（yán）長磁控濺射時間。
丨夾具設計不合理；應改進（jìn）夾具設（shè）計。
丨鍍件幾何形狀過於複雜（zá）；鍍（dù）件的轉速應適當提高。

 起皺（zhòu）、開（kāi）裂 
丨底漆噴（pēn）得太厚；應控製噴霧的厚度。
丨塗（tú）層粘度過高（gāo）；應適當降低塗料的粘度（dù）。
丨蒸發速（sù）度過（guò）快（kuài）；蒸發速度應適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮短（duǎn）。
丨電鍍溫度過（guò）高；鍍件的加熱時間應（yīng）適當縮短。

 薄膜表麵有水印（yìn）、指紋和灰粒 
丨鍍件清洗後未充分幹燥；應加強鍍前處理。
丨在鍍（dù）件表麵潑水或唾液；加強文明生產，操作人員戴口罩。
丨塗底漆後（hòu），手接觸鍍（dù）件（jiàn），表麵留下指（zhǐ）紋；嚴禁用手（shǒu）觸摸（mō）鍍（dù）件表麵。
丨有顆粒物，應過濾或除塵。
丨靜電（diàn）除塵失敗或噴塗（tú）固化（huà）環境有顆粒（lì）粉塵；應更換除塵器並清潔工作環（huán）境。


除以上常用材料外，金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在（zài）鍍膜中（zhōng）使用（yòng）。多質靶（bǎ）材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩（fán）錸、鎢（wū）鉬等。

下一個：紫外線燈在真空鍍膜上的光固化塗料的運用